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口頭

X線及び中性子回折によるSiO$${}_{2}$$ガラスの高温高圧下での相転移/緩和の検証

服部 高典; Yagafarov, O.*; 片山 芳則*; 千葉 文野*; 佐野 亜沙美; 稲村 泰弘; 大友 季哉*; 町田 真一*; 阿部 淳*; 舟越 賢一*; et al.

no journal, , 

石英ガラスはSiO$${}_{4}$$四面体を構成ユニットとした非晶質固体である。四面体が互いに頂点共有し、多員環(中距離秩序)をつくっているため構造中に隙間が多く、加圧により顕著な密度の増加が見られる。常温下で約8GPaまで加圧すると、中距離構造が変化し、密度が約20%増加する。常温下では、構造緩和が起きないために、脱圧後、密度が元に戻るが、高圧下で加熱すると構造緩和が起き、常圧下に回収した後も高密度状態が保たれる(永久高密度化)。本研究ではこれらの高密度化の微視的機構を調べるために、J-PARC高圧ビームラインPLANETにて、約17GPaまでの室温高圧、及び約10GPaまでの高温高圧下の中性子回折実験を行った。得られたS(Q)と、過去の高圧X線回折で得られているS(Q)を用いて、リバースモンテカルロシミュレーションを行い、原子の3次元配列モデルを導出した。本講演では、得られた構造モデルを基に、高圧常温及び高圧高温下における高密度化機構及びその違いに関して議論する。

口頭

充填スクッテルダイト化合物PrFe$$_{4}$$P$$_{12}$$の低温高圧下での磁性と伝導

本元 悟*; 長壁 豊隆; 桑原 慶太郎*

no journal, , 

充填スクッテルダイト化合物PrFe$$_{4}$$P$$_{12}$$について、同一加圧条件の下で、5.5GPaまでの中性子磁気回折と電気伝導の測定を行った。この物質は、2.4GPa以上で絶縁体転移すると共に、反強磁性秩序を示す。当初、この絶縁体転移は、反強磁性秩序に伴うスレーター絶縁体転移と考えられていたが、我々の測定の結果、f電子と伝導電子の混成により生じる混成ギャップである可能性が明らかになった。さらに、このギャップは加圧とともに大きくなるが、4GPa付近から再び減少することが新たに明らかとなった。一方、反強磁性転移温度は、混成ギャップと負の相関があり、4GPa付近から急激に上昇することがわかっている。現時点では、これらの振る舞いの微視的な解釈はできていないが、この物質の特殊なフェルミ面の不安定性がこれらの現象に深く関係していると考えている。

口頭

ウラン強磁性化合物の高圧研究; 秩序状態の圧力効果

立岩 尚之; 芳賀 芳範

no journal, , 

高圧下磁化測定用圧力セルmCACの開発を行ってきた。これを用いて、ウラン強磁性化合物UGe$$_2$$、URhGeの圧力応答を調べてきた。強磁性状態の変化をスピンの揺らぎ理論を用いて解析している。その結果を報告する。

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